MPCVD是MicrowavePlasmaChemicalVaporDeposition的简写，中文名称叫微波等离子体化学气相沉积，MPCVD设备作为优异的钻石培育设备，其工作原理为通过微波源产生微波，在微波场的作用下，反应气体被激发为等离子体状态。等离子体是部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体呈球状形成于金刚石衬底上，利用等离子体的高温让衬底可以加热到一定的温度。

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一、技术亮点1、样品台可360°旋转。2、特殊设计生长台，适合球面金刚石生长。3、真空保压效果好，更适合沉积高纯金刚石。4、质量可靠，性能优越，连续工作时间更长。5、微波等离子体能量集中，不烧玻璃。6、设备零部件模块化，节省工艺成本。7、同一腔体支持6~10KW微波源更换。8、生长台有效直径60~80mm。9、核心零部件全进口。二、应用领域MPCVD设备适于沉积单晶、多晶金刚石薄膜，类金刚石薄膜的化学气相沉积及材料表面处理、改性及掺杂等相关工作。人造钻石、金刚石目前已广泛应用于金刚石材料、复合热沉积、精密刀具刀头、光学窗口、功率电子器件等领域。

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MPCVD是MicrowavePlasmaChemicalVaporDeposition的简写，中文名称叫微波等离子体化学气相沉积，MPCVD设备作为优异的钻石培育设备，其工作原理为通过微波源产生微波，在微波场的作用下，反应气体被激发为等离子体状态。等离子体是部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体呈球状形成于金刚石衬底上，利用等离子体的高温让衬底可以加热到一定的温度。使用MPCVD设备，含碳气体被泵入真空室，可使钻石以微米级每小时的速率沉积，生长为钻石结晶。腔体类型：柱形腔/圆柱腔沉积面积：60~80mm微波电源：德国牧歌MUEGGEMFC气路：5

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