MPCVD是 Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition的简写，中文名称叫微波等离子体化学气相沉积，MPCVD设备作为优异的钻石培育设备，其工作原理为通过微波源产生微波，在微波场的作用下，反应气体被激发为等离子体状态。等离子体是部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体呈球状形成于金刚石衬底上，利用等离子体的高温让衬底可以加热到一定的温度。
使用MPCVD设备，含碳气体被泵入真空室，可使钻石以微米级每小时的速率沉积，生长为钻石结晶。

•  腔体类型： 柱形腔/圆柱腔

•  沉积面积： 60~80mm

•  微波电源： 德国牧歌MUEGGE

•  MFC气路： 5路

•  气体流量质量计： 进口

•  进出料口： 100mm

•  观察窗： 3个

•  测温窗： 1个

•  测温范围： 300~140℃

•  生长台升降功能： 有

•  生长台旋转功能： 有

•  尺寸： 约1600*800*2000mm

产品介绍：

• 采用定向微波耦合,微波均勻
  

• **功率达到10KW
  

• 高精度气体质量流量计
  

• 高纯度石英窗
  

• 晶体生产面积大
  

• 不锈钢反应腔，能耐高温
  

• PID控制，腔体压力稳定
  
  

应用领域：

• 金刚石材料
  

• 复合热沉积
  

• 精密刀具刀头
  

• 光学窗口
  

• 功率电子器件