产品描述

AltraPure®GCD 陶瓷气体扩散器可快速将工艺设备真空腔室与大气环境进行通风，从而缩短工艺周期时间，并提高工艺产量。

GCD 气体扩散器，采用多孔氧化铝陶瓷，孔隙均匀，可提供均匀、层流的气体流动，而不会扰动真空腔室内的粒子。此扩散器还可以从进气中去除≥ 0.0025μm 的颗粒物杂质，**限度地减少晶圆上的缺陷。

GCD 气体扩散器可承受更高的运行压力，并在超过 100,000 次循环后仍能保持产品完整性。

应用

AltraPure® GCD陶瓷气体扩散器，可以使用与真空进样室、传输室、冷却室，和半导体工艺设备的真空工艺室如:CVD、PVD、Etch、Epi或其它真空室等。