TFC-10800C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。

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TFC-10800D，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。

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碳方程50200AMPCVD设备采用915MHZ的微波频率及50KW运行功率，该设备单炉可生产8英寸多晶产品，若用于生产单晶金刚石，单炉能够稳定产出多达489片尺寸为7*7mm的单晶金刚石，具有高可靠性、稳定运行、无人值守的安全联锁性能，极大地提高了生产效率，此设备旨在解决大尺寸金刚石的生长、高沉积速率的难题。

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