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等离子辅助抛光设

等离子辅助抛光设
  • 品牌:
  • 产地:深圳
  • 关注度:0
  • 型号:PAP
  • 报价:面议
核心参数
  • 磨削方式:精磨
  • 结合剂类型:其他
  • 金刚石类型:天然金刚石
  • 仪器种类:实验室
  • 测定原理:其它
  • 测定范围:0.01~5mg/L
  • 测定准确度:±1%
  • 检出限 :≤0.005mg/L
  • 测定时间:30样品/小时
  • 批处理量:不限
产品介绍

产品简介

等离子辅助抛光设备面向金刚石等超硬材料的精密表面加工需求,通过等离子体辅助表面改性,实现高效、低损伤的精密抛光。适用于对表面质量、材料完整性及加工效率有较高要求的半导体材料加工场景。

产品特点

  • 面向超硬材料的高效精密抛光

  • 有助于降低传统机械加工带来的表面损伤

  • 支持高品质表面精整需求

  • 适用于研发验证及先进制造应用

适用材料与应用

适用于金刚石、氧化物陶瓷等硬脆材料,可应用于功率半导体相关材料、散热材料及高性能电子器件的表面加工。


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