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核心参数
- 磨削方式：干磨
- 结合剂类型：其他
- 金刚石类型：人工金刚石
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
该系列抛光机是双轴高精密单面抛光设备，设备可依据不同晶圆配置相应抛光头，真空吸附固定晶圆，气囊加压，抛光压头自转并兼具摆动功能，适用于各种半导体材料的抛光。
TAP-400TAP-450TAP-500TAP-600
抛光盘规格
OD400 mm
抛光头数量
2个
抛光头摆动
摆幅摆速可调
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北京特思迪半导体设备有限公司
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