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核心参数
- 结合剂类型：其他
- 金刚石类型：人工金刚石
- 磨削方式：干磨
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
该系列双面抛光机采用上抛光盘可摆出式设计，气囊加压方式，搭配不同的抛光垫、抛光液可以实现各种材料的双面抛光。
TDP-1200TDP-1204TDP-1500
抛光压力
Max1000 kgf
上下抛光盘尺寸
OD1100 mm
游星轮数量
6个
产品特点
加压方式
气囊加压方式 比例阀精确控制压力
加工方式
双面加工
工艺优化
独特的抛光盘面型控制工艺
恒温控制
抛光盘温度控制系统
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北京特思迪半导体设备有限公司
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